?近日，北方華創正式發布SICRIUS PY302系列12英寸低壓化學氣相硅沉積立式爐設備。該設備面向高端邏輯芯片與存儲芯片領域非晶硅、多晶硅薄膜沉積技術，成功攻克高深寬比結構填充、高平坦度薄膜生長和兼容低溫工藝三大技術瓶頸，標志著北方華創在高端半導體裝備領域持續取得關鍵技術突破。

在三維集成芯片制造成為主流的今天，堆疊層數的增加帶來了更高的深寬比要求，這使得垂直結構填充面臨挑戰。傳統填充工藝容易產生孔洞，從而導致器件失效。SICRIUS PY302系列設備通過其低壓反應腔技術和多區獨立高精度溫控系統，實現了自下而上的無缺陷填充，確保了高臺階覆蓋率。這一技術突破為邏輯芯片和存儲芯片等頭部企業的量產需求提供了堅實保障。?

在高端芯片柵極制造中，實現薄膜的高平坦度是一項關鍵挑戰。SICRIUS PY302系列設備采用全自主設計的全石英腔室與高精度溫度控制加熱器，結合氣體流場與熱場協同控制算法，將膜厚均勻性和表面粗糙度控制在原子級，顯著提升晶體管電性穩定性。同時，該設備集成了多種硅源前驅體，并實現了原位清洗、原位刻蝕和多元素摻雜等先進工藝功能，從而大幅降低了器件的缺陷率。?

目前，SICRIUS PY302系列設備已通過多家領先晶圓廠的嚴格驗證，在先進邏輯與存儲芯片制造中實現了規模量產，并持續獲得重復訂單，為半導體制造企業提供了高效、可靠的設備解決方案。

作為中國集成電路裝備的平臺型企業，北方華創始終以“推動產業進步，創造無限可能”為使命，持續聚焦刻蝕、薄膜沉積、熱處理、濕法、離子注入等核心裝備的技術迭代，為中國半導體產業注入創新動力，攜手合作伙伴共同構建安全、高效、可持續的產業生態。

（來源：北方華創）?