2024年11月18-21日，第十屆國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS2024）&第二十一屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA2024）、先進半導(dǎo)體技術(shù)應(yīng)用創(chuàng)新展（CASTAS）將在蘇州國際博覽中心舉辦。

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司（簡稱“鵬城半導(dǎo)體”）將攜多款設(shè)備產(chǎn)品亮相此次展會。值此，誠摯邀請第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)同仁共聚論壇，蒞臨A05號展位參觀交流、洽談合作。?

關(guān)于鵬程半導(dǎo)體 Company Profile

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鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司，由哈爾濱工業(yè)大學(xué)（深圳）與有多年實踐經(jīng)驗的工程師團隊共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于市場前沿、產(chǎn)業(yè)前沿和技術(shù)前沿的交叉點，尋求創(chuàng)新引領(lǐng)與可持續(xù)發(fā)展，解決產(chǎn)業(yè)的痛點和國產(chǎn)化難題，爭取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。?

公司核心業(yè)務(wù)是微納材料（含半導(dǎo)體材料）、微納制造工藝、微納裝備的研發(fā)設(shè)計和生產(chǎn)制造。?

Pengcheng Semiconductor Technology (Shenzhen) Co., Ltd. was jointly founded by Harbin Institute of Technology (Shenzhen) and a team of engineers with many years of practical experience. The company is based at the intersection of the market frontier, industrial frontier, and technological frontier, seeking innovation-driven and sustainable development to solve the pain points and domestication problems of the industry and strive for the independent and controllable supply chain.?

The core business of the company is the research, design, and production of micro- and nano-scale materials (including semiconductor materials) and micro- and nano-scale manufacturing processes and equipment.

參展產(chǎn)品Products

1：HFCVD熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備

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研發(fā)設(shè)計制造了熱絲CVD金剛石設(shè)備，分為實驗型設(shè)備和生產(chǎn)型設(shè)備兩類。?

設(shè)備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發(fā)和生產(chǎn)。可用于力學(xué)級別、熱學(xué)級別、光學(xué)級別、聲學(xué)級別的金剛石產(chǎn)品的研發(fā)生產(chǎn)。?

可以制造大尺寸金剛石多晶晶圓片，用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。?

可用于生產(chǎn)制造防腐耐磨硬質(zhì)涂層；環(huán)保領(lǐng)域污水處理用的金剛石產(chǎn)品。

可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規(guī)則表面的金剛石硬質(zhì)涂層制備。

?可用于太陽能薄膜電池的研發(fā)與生產(chǎn)。

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▲ 金剛石薄膜生產(chǎn)線

2：高真空磁控濺射儀（實驗型、生產(chǎn)型）

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高真空磁控濺射儀是用磁控濺射的方法，制備金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等；適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜；可鍍制磁性材料和非磁性材料。?

3：分子束外延薄膜生長設(shè)備（MBE）

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分子束外延薄膜生長設(shè)備（MBE）可以在某些襯底上實現(xiàn)外延生長工藝，實現(xiàn)分子自組裝、超晶格、量子阱、一維納米線等。可以進行第二代半導(dǎo)體和第三代半導(dǎo)體的工藝驗證和外延片的生長制造。

分子束外延薄膜生長設(shè)備在薄膜外延生長時具有超高的真空環(huán)境，是在理想的環(huán)境下進行薄膜外延生長，它可以排除在薄膜生長時的各種干擾因素，得到理想的高精度薄膜。

我公司設(shè)計制造的分子束外延薄膜生長實驗設(shè)備，分實驗型和生產(chǎn)型兩種，配置合理，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，技術(shù)先進，性能可靠，用途多，實用性強，價格相對較低，可供各大學(xué)的實驗室及科研機構(gòu)作為分子束外延方面的教學(xué)實驗、科學(xué)研究及工藝實驗之用。

生產(chǎn)型MBE可用于批量外延片的制備。

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4：高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機

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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發(fā)的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導(dǎo)電薄膜、光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點材料。可用于生產(chǎn)、科學(xué)實驗及教學(xué)，可根據(jù)用戶要求專門訂制。

可根據(jù)用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學(xué)膜厚自動控制兩種方式，通過PLC和工控機聯(lián)合實現(xiàn)對整個鍍膜過程的全程自動控制，包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等，從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。

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5：PECVD等離子體增強化學(xué)氣相沉積

PECVD 等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備主要用于在潔凈真空環(huán)境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長；采用單頻或雙頻等離子增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，是沉積高質(zhì)量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設(shè)備。

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6：真空高溫CVD爐

真空高溫CVD 爐，采用高溫化學(xué)氣相沉積的方法，在工件表面沉積種薄膜，在半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用非常廣泛，包括沉積大面積的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料，例如：碳化鉭涂層、碳化硅涂層材料。

例如：可在石墨工件表面沉積碳化鉭涂層和碳化硅涂層。

適用于生產(chǎn)企業(yè)及各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)保科學(xué)等領(lǐng)域。

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參會聯(lián)系：

第十屆國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS）

第二十一屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA）

時間：2024年11月18-21日

地點：江蘇·蘇州國際博覽中心·G館

國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS）是第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在中國地區(qū)的年度盛會，是前瞻性、全球性、高層次的綜合性論壇。會議以促進第三代半導(dǎo)體與電力電子技術(shù)、移動通信技術(shù)、紫外探測技術(shù)和應(yīng)用的國際交流與合作，引領(lǐng)第三代半導(dǎo)體新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展方向為活動宗旨，全面覆蓋行業(yè)基礎(chǔ)研究、襯底外延工藝、電力電子器件、電路與模塊、下游應(yīng)用的創(chuàng)新發(fā)展，聯(lián)結(jié)產(chǎn)、學(xué)、研、用，提供全球范圍的全產(chǎn)業(yè)鏈合作平臺。在過去的九年時間里，IFWS延請寬禁帶半導(dǎo)體領(lǐng)域國際頂級學(xué)術(shù)權(quán)威分享最前沿技術(shù)動態(tài)，已發(fā)展成具有業(yè)界影響力的綜合性專業(yè)論壇。

中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA）是SSL國際系列論壇在中國地區(qū)的年度盛會，SSLCHINA是半導(dǎo)體照明領(lǐng)域最具規(guī)模、參與度最高、口碑最好的全球性專業(yè)論壇。SSL國際系列論壇以促進半導(dǎo)體照明技術(shù)和應(yīng)用的國際交流與合作，引領(lǐng)半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)的發(fā)展方向為活動宗旨，全面覆蓋行業(yè)工藝裝備、原材料，技術(shù)、產(chǎn)品與應(yīng)用的創(chuàng)新發(fā)展，提供全球范圍的全產(chǎn)業(yè)鏈合作平臺，致力于拓展業(yè)界所關(guān)注的目標(biāo)市場，以專業(yè)精神恒久締造企業(yè)的商業(yè)價值。

今年，國際第三代半導(dǎo)體論壇與中國國際半導(dǎo)體照明論壇于11月18-21日在蘇州國際博覽中心舉辦，同臺匯力，相映生輝，放眼LED+和先進電子材料更廣闊的未來。